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产品中心
设备用途
适用于制备金属薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作。
设备组成
该设备主要由金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。
极限真空度:6x10-5Pa;
抽速:6x10-4Pa≤30min;
样品尺寸:100x100mm;
样品台温度:300℃;
有机束源炉组件:2套;
热阻蒸发源组件:2套;
分子泵系统:1套;
自动控制系统:1套;
膜厚监测仪(1个探头):1套;
冷却水路系统:1套。
地址:沈阳市浑南新区新源街1号
销售电话:024-23826899、024-23826855
售后电话:024-23826838
传真:024-23826828
邮箱:sales@sky.ac.cn
网址:www.hickmanracing.com
开户行:建行沈阳浑南新区产业园分理处
账号:2100 1394 6010 5958 1266
纳税号:912101 0041 0581 2660
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